产品用途
(1)高纯三氯化硼主要用于（硅）半导体器件制造工艺中的扩散掺杂（在高温下，经过分解生成硼杂质向硅中扩散，形成P型半导体）、离子注入（作为离子注入源，高能量作用下使硼原子离子化，产生硼离子束并注入硅形成P型浅结）、干法蚀刻（用于Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、Wsi等材料的蚀刻）等过程；
(2)可作为许多有机反应中的优良催化剂（如苯乙烯聚合反应中建议使用，可提高产量及效率）及医药工业的中间体；
(3)用于制备有机硼化合物的基础材料：乙硼烷；硼酸酯等；
用于制备无机硼化合物材料：硼纤维、BN纤维先驱体、BN坩锅等；
用于制备硼化物粉末：高纯硼粉（无定型及结晶型）、BN、BC4、TiB2超细粉；
用于CVD涂层及镀膜工艺：涂覆B、BC4、BN、TiB2等保护涂层及膜；
用作光导纤维的基础材料；
此外还可用于制造太阳能电池元件等工艺过程中；
环氧树脂固化剂；
碳纤维石墨化的渗硼工艺。
(4)还可用于金属冶炼如铝、镁、锌、铜合金的提纯过程（可脱除熔融金属中的氮化物、碳化物和氧化物。用三氯化硼气体处理熔化的铝，可使铝铸件的性能得到改善。）
(5)用作铝、铁、锌、锰、钨、蒙乃尔等合金的焊剂。
(6)用于扑灭热处理炉中的Mg火。
(7)高能燃料及火箭推进剂中，三氯化硼作为硼源以提高BTU值。