一氟甲烷（HFC-41），又名甲基氟、氟甲烷，英文名Methyl Fluoride，CAS号为593-53-3，分子式为CH3F，在常温、常压下是一种无色、无嗅的易燃气体。HFC-41的臭氧消耗潜能值（ODP）为0，全球变暖潜能值（GWP100）为116，大气寿命为2.8年。

高纯HFC-41气体是一种绿色、高效的新型蚀刻气，可用于半导体及电子产品的蚀刻，例如可选择性地蚀刻硅化合物的薄膜。HFC-41用在半导体及电子产品的制程中，在射频场下其会溶解氟离子，可选择性的蚀刻硅化合物的薄膜，即反应性离子蚀刻（Reactive-ion Etching）。HFC-41对Si3N4（SiNx）介质层的选择性比Si和SiO2高，可在5-10 nm的厚度内，对该介质层进行精准刻蚀，刻蚀速率也更高。在实际应用过程中，HFC-41会与氧气、氮气、氦气、氩气、三氟化氮、二氧化碳中的一种或几种进行混配，从而同时满足不同临界尺寸偏移量和不同掩膜/介质层选择性的工艺需求。